ვაფლი დამზადებულია სუფთა სილიკონისგან (Si).ზოგადად იყოფა 6-დიუმიან, 8-დიუმიან და 12-დიუმიან სპეციფიკაციებად, ვაფლი იწარმოება ამ ვაფლის საფუძველზე.სილიკონის ვაფლებს, რომლებიც მომზადებულია მაღალი სისუფთავის ნახევარგამტარებისგან ისეთი პროცესების საშუალებით, როგორიცაა კრისტალების ამოღება და დაჭრა, ეწოდება ვაფლი ბექა.გამოიყენეთ ისინი მრგვალი ფორმის.სხვადასხვა მიკროსქემის ელემენტების სტრუქტურები შეიძლება დამუშავდეს სილიკონის ვაფლებზე, რათა გახდეს პროდუქტები სპეციფიკური ელექტრული თვისებებით.ფუნქციური ინტეგრირებული მიკროსქემის პროდუქტები.ვაფლები გადიან ნახევარგამტარების წარმოების პროცესების სერიას, რათა შექმნან უკიდურესად მცირე მიკროსქემის სტრუქტურები, შემდეგ კი იჭრება, იფუთება და ტესტირება ჩიპებად, რომლებიც ფართოდ გამოიყენება სხვადასხვა ელექტრონულ მოწყობილობებში.ვაფლის მასალებმა განიცადეს 60 წელზე მეტი ტექნოლოგიური ევოლუცია და სამრეწველო განვითარება, შექმნა ინდუსტრიული სიტუაცია, რომელშიც დომინირებს სილიციუმი და ავსებს ახალი ნახევარგამტარული მასალები.
მსოფლიოში მობილური ტელეფონებისა და კომპიუტერების 80% იწარმოება ჩინეთში.ჩინეთი თავისი მაღალი ხარისხის ჩიპების 95%-ს იმპორტზე ეყრდნობა, ამიტომ ჩინეთი ყოველწლიურად ხარჯავს 220 მილიარდ აშშ დოლარს ჩიპების იმპორტისთვის, რაც ორჯერ აღემატება ჩინეთის ნავთობის წლიურ იმპორტს.ასევე დაბლოკილია ფოტოლითოგრაფიულ მანქანებთან და ჩიპების წარმოებასთან დაკავშირებული ყველა მოწყობილობა და მასალა, როგორიცაა ვაფლი, მაღალი სისუფთავის ლითონები, ჭურვის მანქანები და ა.შ.
დღეს მოკლედ ვისაუბრებთ ვაფლის აპარატების ულტრაიისფერი შუქის წაშლის პრინციპზე.მონაცემების ჩაწერისას აუცილებელია მცურავი კარიბჭეში მუხტის შეყვანა ჭიშკარზე მაღალი ძაბვის VPP-ის გამოყენებით, როგორც ეს ნაჩვენებია ქვემოთ მოცემულ სურათზე.ვინაიდან ინექციურ მუხტს არ აქვს ენერგია სილიციუმის ოქსიდის ფირის ენერგეტიკულ კედელში შესაღწევად, მას შეუძლია მხოლოდ სტატუს კვოს შენარჩუნება, ამიტომ მუხტს გარკვეული რაოდენობის ენერგია უნდა მივცეთ!ამ დროს საჭიროა ულტრაიისფერი გამოსხივება.
როდესაც მცურავი კარიბჭე იღებს ულტრაიისფერ გამოსხივებას, მცურავი კარიბჭის ელექტრონები იღებენ ულტრაიისფერი სინათლის კვანტების ენერგიას და ელექტრონები გახდებიან ცხელი ელექტრონები სილიციუმის ოქსიდის ფირის ენერგეტიკულ კედელში შესაღწევად.როგორც ნახატზეა ნაჩვენები, ცხელი ელექტრონები შეაღწევენ სილიციუმის ოქსიდის ფენას, მიედინება სუბსტრატსა და კარიბჭეში და ბრუნდებიან წაშლილ მდგომარეობაში.წაშლის ოპერაცია შეიძლება შესრულდეს მხოლოდ ულტრაიისფერი გამოსხივების მიღებით და მისი ელექტრონულად წაშლა შეუძლებელია.სხვა სიტყვებით რომ ვთქვათ, ბიტების რაოდენობა შეიძლება შეიცვალოს მხოლოდ "1"-დან "0"-მდე და საპირისპირო მიმართულებით.სხვა გზა არ არის, თუ არა ჩიპის მთლიანი შინაარსის წაშლა.
ჩვენ ვიცით, რომ სინათლის ენერგია უკუპროპორციულია სინათლის ტალღის სიგრძისა.იმისთვის, რომ ელექტრონები გახდნენ ცხელი ელექტრონები და ამგვარად ჰქონდეთ ოქსიდის ფენაში შეღწევის ენერგია, ძალიან საჭიროა სინათლის დასხივება უფრო მოკლე ტალღის სიგრძით, ანუ ულტრაიისფერი სხივებით.ვინაიდან წაშლის დრო დამოკიდებულია ფოტონების რაოდენობაზე, წაშლის დრო არ შეიძლება შემცირდეს თუნდაც მოკლე ტალღის სიგრძეზე.ზოგადად, წაშლა იწყება, როდესაც ტალღის სიგრძე არის დაახლოებით 4000A (400nm).ის ძირითადად აღწევს გაჯერებას დაახლოებით 3000A.3000A-ზე ქვემოთ, მაშინაც კი, თუ ტალღის სიგრძე უფრო მოკლეა, ეს არ იმოქმედებს წაშლის დროზე.
ულტრაიისფერი სხივების წაშლის სტანდარტი ზოგადად არის ულტრაიისფერი სხივების მიღება ზუსტი ტალღის სიგრძით 253,7 ნმ და ინტენსივობით ≥16000 μ W/cm².წაშლის ოპერაცია შეიძლება დასრულდეს ექსპოზიციის დროით 30 წუთიდან 3 საათამდე.
გამოქვეყნების დრო: დეკ-22-2023